تطبيقات كربيد البورون (B₄C) في صناعة أشباه الموصلات
1. مسحوق كاشط فائق الدقة للتلميع والتجليخ
- معجون التلميع لتقطيع رقائق السيليكون أحادية البلورة، وترقيق الجانب الخلفي والتلميع الدقيق؛ ضرر منخفض تحت السطح، ومعدل إزالة مواد مرتفع، وخالٍ من تلوث المعادن الثقيلة.
- وسائط تلميع لركائز أشباه الموصلات SiC/GaN (IGBT، MOSFET، رقائق RF)، مثالية لتسوية البلورات ذات فجوة النطاق العريضة الصلبة.
- مادة كاشطة CMP لقناع السيليكون متعدد التبلور المطعّم بالبورون في تصنيع ذاكرة الوصول العشوائي الديناميكية المتقدمة، مما يوفر انتقائية عالية لطبقات التوقف من الأكسيد/النيتريد.
- مركب تلميع، أداة تسوية عجلة الماس، مادة كاشطة حرة لتقطيع الرقائق.
2. مصدر البورون الصلب لزرع الأيونات
يُستخدم كربيد البورون عالي النقاء كمصدر صلب للبورون في أجهزة زرع الأيونات لتوليد أيونات البورون الموجبة (B⁺) اللازمة لتطعيم رقائق السيليكون من النوع P، وهو أمر ضروري للترانزستورات وذاكرة الوصول العشوائي ورقائق المنطق. يتميز هذا المركب بثباته عند درجات الحرارة العالية مع الحفاظ على جرعة تطعيم ثابتة.
3. مكونات سيراميكية من كربيد البورون المتلبد لمعدات الحفر والترسيب
مقاومة فائقة للتآكل الناتج عن بلازما الفلور/الكلور، وانخفاض توليد الجسيمات، وعمر خدمة طويل:
- حلقات التركيز لأجهزة الحفر الجاف ICP/RIE
- رؤوس الدش / لوحات توزيع الغاز لغرف الترسيب الكيميائي للبخار المعزز بالبلازما
- بطانات حجرة، وأكمام عازلة للحرارة، وقواعد تثبيت كهروستاتيكية
- نوافذ الميكروويف/الأشعة تحت الحمراء، وحوامل رقائق السيليكون عالية الحرارة، ومقابس عازلة للتيار المستمر
4. أهداف رش البورون والكربيد عالية النقاء
بالنسبة لطلاء PVD: أغشية رقيقة صلبة مقاومة للبلازما، وطلاءات واقية من الإشعاع، وطبقات واقية مقاومة للتآكل على تجهيزات الرقائق.
5. مكونات خاصة للكشف الإلكتروني والإشعاعي
- أجهزة أشباه الموصلات ذات فجوة النطاق الواسعة التي تعمل في درجات حرارة أعلى من 2000 درجة مئوية.
- أزواج حرارية من الجرافيت B₄C (بحد أقصى 2300 درجة مئوية) لأفران تلدين الرقائق وأفران الترسيب الطبقي.
- رقائق كاشف النيوترونات ذات الحالة الصلبة لاختبار موثوقية الإشعاع لأشباه الموصلات.
- بطانات واقية من النيوترونات لمختبرات زرع الأيونات وتشعيع الرقائق.